Reakcijas slānis uz titāna plākšņu un titāna stieņu virsmas ir galvenais faktors, kas ietekmē titāna sagatavju fizikālās un ķīmiskās īpašības. Pirms apstrādes ir nepieciešams pilnībā noņemt virsmas piesārņojuma slāni un defektu slāni. Tātad, kā tikt galā ar virsmas defektiem?
1. Apstrāde ar smilšu strūklu:
Titāna stiepļu lējumu apstrāde ar smilšu strūklu parasti ir labāka, izmantojot balto korunda aerosolu, un smilšu strūklas spiediens ir mazāks nekā nedārgmetālu spiedienam, ko parasti kontrolē zem 0,45 MPa. Jo, kad injekcijas spiediens ir pārāk augsts, smilšu daļiņas iedarbojas uz titāna virsmu un rada intensīvas dzirksteles. Temperatūras pieaugums var reaģēt ar titāna virsmu, veidojot sekundāru piesārņojumu un ietekmējot virsmas kvalitāti. Laiks ir 15-30 sekundes, un var noņemt tikai smiltis, kas pielipušas lējuma virsmai, virsmas saķepināto slāni un dažus oksidācijas slāni. Atlikušās virsmas reakcijas slāņa struktūras ātri jānoņem ar ķīmisko kodināšanu.
2. Kodināšana:
Skābes mazgāšana var ātri un pilnībā noņemt virsmas reakcijas slāni, neradot piesārņojumu no citiem virsmas elementiem. Titāna kodināšanai var izmantot gan HF-HCL, gan HF-HNO3 kodināšanas šķīdumus, bet HF-HCL kodināšanas šķīdumiem ir lielāka ūdeņraža absorbcijas spēja, savukārt HF-HNO3 kodināšanas šķīdumiem ir mazāka ūdeņraža absorbcijas spēja. HNO3 koncentrāciju var kontrolēt, lai samazinātu ūdeņraža absorbciju, un virsmu var pulēt. Parasti HF koncentrācija ir aptuveni 3 procenti -5 procenti, un HNO3 koncentrācija ir aptuveni 15 procenti -30 procenti.
3. Ķīmiskā pulēšana:
Ķīmiskās pulēšanas laikā izlīdzināšanas un pulēšanas mērķis tiek sasniegts, izmantojot metālu redoksreakciju ķīmiskā vidē. Tā priekšrocība ir tāda, ka ķīmiskā pulēšana nav atkarīga no metāla cietības, pulēšanas laukuma un strukturālās formas. Visas detaļas, kas nonāk saskarē ar pulēšanas šķīdumu, tiek pulētas, bez īpašas un sarežģītas iekārtas. Tas ir viegli lietojams un vairāk piemērots sarežģītu titāna protēžu kronšteinu pulēšanai. Tomēr ķīmiskās pulēšanas procesa parametrus ir grūti kontrolēt, tādēļ ir nepieciešama laba pulēšanas iedarbība uz protēzēm, neietekmējot to precizitāti. Labāku titāna ķīmisko pulēšanas šķīdumu sagatavo ar HF un HNO3 noteiktā proporcijā. HF ir reducētājs, kas var izšķīdināt titāna metālu un pildīt izlīdzināšanas lomu. Ja koncentrācija ir mazāka par 10 procentiem, HNO3 spēlē oksidējošu lomu, novēršot pārmērīgu titāna izšķīšanu un ūdeņraža absorbciju, vienlaikus radot arī izgaismojošu efektu. Titāna pulēšanas šķīdumam nepieciešama augsta koncentrācija, zema temperatūra un īss pulēšanas laiks (1-2 minūtes).
4. Elektrolītiskā pulēšana:
Zināms arī kā elektroķīmiskā pulēšana vai anodiskās šķīdināšanas pulēšana, jo titāna sakausējuma cauruļu zemās vadītspējas un spēcīgās oksidācijas veiktspējas dēļ ir gandrīz neiespējami pulēt titānu, izmantojot ūdens skābos elektrolītus, piemēram, HF-HO4 un HF-H2SO4 sērijas elektrolītus. Pēc ārējā sprieguma pieslēgšanas titāna anods nekavējoties oksidējas, padarot anoda izšķīšanu neiespējamu. Tomēr bezūdens hlorīda elektrolīta izmantošanai zemā spriegumam ir laba titāna pulēšanas iedarbība. Nelieli paraugi var sasniegt spoguļpulēšanu, bet sarežģītu restaurāciju gadījumā pilnīgas pulēšanas mērķi nevar sasniegt.
Valsts: Ķīna
Pievienot: Baoti ceļš, Jintai, Baoji pilsēta, Shaanxi, Ķīna
Cel/Whatsapp : plus 86 18309262795
E-pasts:annie@jmyunti.com
Vietne: www.jm-titanium.com
